СМИ: Китай тайно разрабатывает EUV-машину для производства передовых чипов

Китайские инженеры создали прототип установки для генерации экстремального ультрафиолета (EUV) — ключевой технологии для производства современных микросхем. Об этом сообщает Reuters со ссылкой на источники, знакомые с проектом.

Разработка ведётся в лаборатории в Шэньчжэне в рамках масштабной государственной программы по достижению технологической независимости в сфере полупроводников, которую уже называют китайским «Манхэттенским проектом». В проекте участвуют сотни компаний и научных институтов, а координацией, по данным СМИ, занимается Huawei.

Сообщается, что в создании прототипа задействованы в том числе бывшие сотрудники ASML — единственной компании в мире, выпускающей серийные EUV-установки. Для сохранения секретности специалисты работают под псевдонимами, а часть из них получила значительные бонусы и субсидии за переезд в Китай.

Прототип крупнее машин ASML и пока уступает им по точности оптики, особенно в узлах, которые в западных установках производит Carl Zeiss. На текущем этапе устройство ещё не выпускает рабочие чипы, однако его тестирование началось в начале 2025 года. Для сборки используются компоненты со старых EUV-систем и детали с ограниченным экспортом из Японии, а молодые инженеры занимаются обратным проектированием оборудования.

Работа над проектом проходит в условиях строгой секретности: сотрудники живут на площадках, использование телефонов ограничено, а команды изолированы друг от друга. Такой режим, по данным источников, призван защитить разработки от утечек на фоне международных санкций и экспортных ограничений.

Официальная цель проекта — получить полностью китайскую EUV-платформу и начать выпуск передовых чипов к 2028 году, однако эксперты считают более реалистичными 2030-е годы. Тем не менее сам факт существования рабочего прототипа говорит о том, что Китай может приблизиться к независимости в производстве ИИ-чипов значительно раньше, чем ожидалось.