Китай создал первый собственный литографический аппарат Xizhi
Китай представил свой первый электронно-лучевой литографический аппарат Xizhi, разработанный в Чжэцзянском университете. Согласно местным СМИ, устройство должно помочь стране снизить зависимость от зарубежных технологий, доступ к которым ограничен экспортным контролем США и Нидерландов.
Почему это важно
Ранее китайские компании могли использовать только оборудование устаревшей технологии DUV (литография в глубоком ультрафиолете). Доступ к передовым EUV-станкам (экстремальная ультрафиолетовая литография) от голландской ASML был невозможен. Такие машины критически важны для производства чипов с техпроцессом меньше 7 нм, тогда как лидеры отрасли вроде TSMC и Samsung уже готовятся к массовому выпуску 2-нм процессоров.
Технология Xizhi
Аппарат использует фокусированные электронные пучки для переноса схем на кремниевые пластины:
- минимальная ширина линий — 8 нм;
- точность позиционирования — 0,6 нм.
Хотя технология не подходит для массового производства микросхем, она идеальна для тестовых этапов и исследований.
Планы и перспективы
- Переговоры о поставках Xizhi ведутся с научными институтами и компаниями;
- Стоимость аппарата ниже импортных аналогов, что делает его привлекательным для внутреннего рынка.
Это первый шаг Китая к созданию собственной экосистемы оборудования для микроэлектроники, позволяющей обходить внешние ограничения.
Дальнейшие амбиции
Слухи говорят, что Huawei уже тестирует собственную экспериментальную EUV-машину на заводе в Дунгуане. Если проект реализуют и к 2026 году запустят массовое производство, Китай сможет выпускать передовые чипы, сравнимые с решениями Apple, Qualcomm и NVIDIA.
